Era Baru Semikonduktor! Transistor Semakin Padat Dengan High-NA-EUV lithography

Sumber : Imec

ZEISS - Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) bersama dengan partner strategisnya, perusahaan asal Belanda, ASML, berhasil menciptakan lompatan teknologi dengan berhasil mengembangkan EUV lithography yang memungkinkan Moore's Law berlanjut hingga setidaknya 2,5 dekade kedepan dan menjadi basis dalam pengembangan transistor pada sebuah microchip. Pengembanga ini EUV lithography akan memungkinkan industri semikonduktor untuk menciptakan generasi baru microchip dengan pengembangan yang lebih lanjut, yaitu dengan High-NA-EUV lithography. Pengembangan lebih lanjut ini bahkan akan memungkinkan Moore's Law hingga lebih dari tahun 2030 [1].

Seperti kita ketahui sendiri Moore's Law merupakan konsep yang memperkirakan bahwa kecepatan dan kemampuan komputer dapat naik dua kali lipat setiap dua tahun sebagai hasil dari meningkatnya jumlah transistor yang dapat dimuat dalam satu microchip. Konsep ini pertama kali diceruskan oleh Co Founder dari Intel, Gordon E. Moore pada tahun 1965 berdasarkan hasil observasinya pada jumlah transistor yang terdapat pada sebuah integrated circuit naik dua kali lipat pada rentang tahun 1960 hingga 1965 [2]. Namun, banyak saintis berpendapat bahwa teori ini akan berkahir setidaknya di tahun 2020 karena keterbatasan teknologi yang ada dan tantangan dalam ukuran transistor yang semakin kecil. Hal ini lah yang membuat perusahaan-perusahaan teknologi berlomba-lomba berinovasi agar teori ini dapat terus relevan di masa mendatang.

Referensi

[1]	https://www.zeiss.com/semiconductor-manufacturing-technology/inspiring-technology/high-na-euv-lithography.html
[2]	https://www.investopedia.com/terms/m/mooreslaw.asp